Ținta de zirconiu este un material utilizat în procesul de depunere de vapori fizici (PVD), de obicei utilizat pentru a face filme subțiri. Zirconiul (simbolul chimic Zr) este un metal de tranziție cu rezistență excelentă la coroziune, punct de topire ridicat și proprietăți mecanice bune. Obiectivele de zirconi sunt utilizate pe scară largă în semiconductori, acoperiri optice, acoperiri decorative și filme funcționale.
Punct de topire: 1852 grad
Punct de fierbere: 4400 grad
Densitate: 6,5g/cm³
Specificații: țintă targetă/țintă rotundă
Standard de implementare: ASTM B550 GB/T 8769-2010 GB/T 26314-2010
Principalele zone de aplicare
1. Fabricarea semiconductorului: țintele de zirconiu sunt utilizate pentru a depune filme constante dielectrice ridicate (înalte-K), cum ar fi oxidul de zirconiu (ZRO₂), pentru straturile dielectrice ale porții tranzistor.
2. Acoperiri optice: Filmele de zirconiu au un indice de refracție ridicat și proprietăți optice bune și sunt adesea utilizate în filme anti-reflecție sau filme reflectorizante pentru dispozitive și lentile optice.
3. Acoperire decorativă: țintele de zirconiu pot fi utilizate pentru a pregăti acoperiri decorative rezistente la uzură și rezistente la coroziune, cum ar fi ceasuri, bijuterii etc.
4. Filme subțiri funcționale: Filmele subțiri de zirconiu pot fi, de asemenea, utilizate în prepararea celulelor de combustibil, a senzorilor și a catalizatorilor.
Caracteristicile țintelor de zirconiu
Puritate ridicată: puritatea țintelor de zirconiu este de obicei necesară pentru a atinge mai mult de 99,9% pentru a asigura performanța filmului.
Densitate ridicată: ținta necesită o densitate ridicată pentru a reduce generarea de particule în timpul sputteringului.
O uniformitate bună: compoziția chimică și microstructura țintei trebuie să fie uniforme pentru a asigura consistența filmului.
Proces de pregătire
Pregătirea țintelor de zirconiu include de obicei următorii pași:
1. Topirea: Pregătiți lingouri de zirconiu de înaltă puritate prin topirea arcului de vid sau topirea fasciculului de electroni.
2. Forjare și rulare: Îmbunătățiți microstructura și proprietățile mecanice ale materialului prin procesarea la cald.
3. Prelucrare: Procesați materialul într -o formă și dimensiune adecvate pentru echipamentele de sputtering.
4. Curățare și ambalare: Asigurați -vă că suprafața țintă este curată pentru a evita contaminarea.
Tag-uri populare: Sputtering Coating Zirconium țintă, China Sputtering Coating Coating Zirconium Producători, Furnizori, Fabrica, Exportatori de tije tantalum, Tuburi de molibden care conformă ROH -urile, 99,95% tijă de molibden, țeavă de molibden rezistentă la coroziune, Tube tantalum pentru producția de baterii, Foaie de tantalum pentru sudură
